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网站营销策略,个人网站要有什么,网站建设教程.,php一键建站在文章【电子通识】半导体工艺——光刻工艺中我们讲到人们经常将 Photo Lithography#xff08;光刻#xff09;缩写成 Photo。光刻工艺是在晶圆上利用光线来照射带有电路图形的光罩#xff0c;从而绘制电路。光刻工艺类似于洗印黑白照片#xff0c;将在胶片上形成的图像印…        在文章【电子通识】半导体工艺——光刻工艺中我们讲到人们经常将 Photo Lithography光刻缩写成 Photo。光刻工艺是在晶圆上利用光线来照射带有电路图形的光罩从而绘制电路。光刻工艺类似于洗印黑白照片将在胶片上形成的图像印在相纸上。 美术课上创作过的“版画”是一种通过在木材、金属或石材的表面上绘制形状然后涂上墨水或颜料印在纸或布上的绘画形式。刻蚀工艺与这种版画的刻蚀 (Etching)技术有着相似的原理。 绘画中的刻蚀技术是指在銅板上涂抹防止酸产生化学反应的防腐蚀剂然后利用锋利的工具 刮削露出铜板的过程然后再将铜板放入腐蚀液(稀硝酸)中控制其腐蚀程度从而产生图形。 显影过程结束后光刻工艺就完成了。接下来进行刻蚀。刻蚀工艺是与铜版画刻蚀(Etching)技术相似的刻蚀工艺。刻蚀工艺作为半导体工艺中的核心环节直接决定了器件的结构和特性刻蚀工艺用于精确地去除或调整半导体表面的材料以形成所需的结构和电路图案。 如果沉积或光刻Photolithography工程中出现问题可通过选择性蚀刻Etch技术解决问题。但是如果蚀刻Etch工程过程中出现问题则情况无法逆转。这是因为无法在雕刻区域填充相同材料。因此在半导体制造过程中刻蚀对于确定总体良品率和产品质量至关重要。 图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。其中刻蚀工艺是光刻Photo工艺的下一步用于去除光刻胶Photo ResistPR未覆盖的底部区域仅留下所需的图案。 这一工艺流程旨在将掩模Mask图案固定到涂有光刻胶的晶圆上曝光→显影并将光刻胶图案转印回光刻胶下方膜层。随着电路的关键尺寸Critical Dimension, CD小型化2D视角刻蚀工艺从湿法刻蚀转为干法刻蚀因此所需的设备和工艺更加复杂。由于积极采用3D单元堆叠方法刻蚀工艺的核心性能指数出现波动从而刻蚀工艺与光刻工艺成为半导体制造的重要工艺流程之一。 物理刻蚀Physical Etching 物理刻蚀指的是通过物理作用去除材料的过程不涉及化学反应。 溅射Sputtering 这是一种常见的物理刻蚀方法其中高能离子撞击材料表面将原子或分子从表面撞出从而实现刻蚀。这种方法广泛用于精细图案的制造尤其是当需要各向异性刻蚀时。 化学刻蚀Chemical Etching 化学刻蚀通过化学反应去除材料形成易于移除的产物。 干法刻蚀Dry Etching 在干法刻蚀中使用等离子体产生的活性离子和自由基与材料发生反应生成挥发性产物常用于精确的图案转移。 干法刻蚀过程中的注意事项                  第一维持一致性(Uniformity)。         一致性是指刻蚀的速度在晶圆上的各个部位“有多相同”在工艺进行的过程中一定时间下不同的晶圆部位刻蚀的速度不同形成的形状也可能不同所以可能会导致位于某些部位的芯片发生不良现象或其特性发生变化。         第二刻蚀速度(Etch Rate)。         它意味着在一定时间内可以去除多少薄膜。刻蚀速度主要取决于表面反应所必需的反应性原子和离子的数量以及离子的能量所以提高对这些因素的控制能力就可以提高总收益率。此外选择性(Selectivity)、形状(Profile)等也是干式刻蚀的重要因素。 湿法刻蚀Wet Etching 使用液态化学试剂与材料发生反应形成可溶解的产物然后通过溶液移除这种方法适用于大面积材料的均匀去除。 湿法刻蚀和干法刻蚀的优缺点 湿法刻蚀因为使用液体速度更快每分钟去除的深度更大但不会形成类似于直方的结构。湿法刻蚀会均匀地刻蚀所有方向从而导致横向方向上的损耗而对于CD小型化应该避免这种现象。 相反干法刻蚀可以在某一特定方向上进行切割使得实现理想中纳米nm级的超精细图案轮廓。 此外湿法刻蚀会产生环境污染因为使用过的液体溶液需在此工艺完成后进行丢弃处理。相比之下采用干法刻蚀时排放管线中会布置洗涤器这能够在向大气中排放废气之前经过中和过程从而减少对环境的影响。 然而由于晶圆上方数多层复杂地缠绕在一起所以在采用干法刻蚀过程中很难瞄准某一特定的层膜。在针对某一特定层进行刻蚀时采用湿法刻蚀会更容易进行因为它采用化学反应进行刻蚀。而在进行选择性刻蚀时使用干法并不容易因为需要结合物理和化学技术。 半导体图案化工艺流程之刻蚀二 | SK hynix Newsroom [半导体前端工艺第四篇] 刻蚀——有选择性地刻蚀材料以创建所需图形 | SK hynix Newsroom 半导体图案化工艺流程之刻蚀一 | SK hynix Newsroom
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